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      半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)? MTK-HT

      型號:MTK-HT
      品牌:MTK
      臭氧濃度:臭氧水濃度高 最大30ppm
      臭氧產量:氧氣消耗量~16L/min.
      使用氣源:氧氣源
      產地:日本
      冷卻方式:水冷
      設備尺寸:400*550*850mm
      整機重量:20~100Kg
      推薦指數:comment rank 5
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      進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
       
      參數
      臭氧生成方式:無聲放電法
      將臭氧氣體溶解于純凈水的方法:噴射方式
      臭氧水中臭氧的濃度監測:紫外吸收法
      臭氧水濃度:最高為30ppm
      臭氧水流量:最高50L /min
      設備尺寸:寬度400mm 深度550mm 高度850毫米(標準型)
      重量:20 ~ 100Kg
      消耗功率:~3KW
      氧氣壓力:為0.1MPa(供給為0.3MPa)
      氧氣純度:99.5%(指定)
      氧氣消耗量:~16L/min.
      供應純凈水的壓力:0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
      供應純凈水的溫度:低于25℃
      臭氧氣體生成部的冷卻水溫度:理想值為20℃以下。如無法實現,需根據情況增加冷卻器(可選)。
      CO2氣體消耗量(臭氧濃度過高時需通過純凈水注入):大約100cc/min
      半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
      特點
      臭氧水濃度高
      (最大30ppm)
      ■臭氧水中無金屬雜質
      半導體,液晶,太陽能電池等潔凈規格(臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成)
      ■臭氧濃度上升快
      達到臭氧最大濃度僅需大約1分鐘
      ■生成器體積小
      長400mm。寬550mm。高820mm(標準規格)
       
      用途
      ?半導體(清洗)
      ?FPD,液晶(清洗)
      ?MEMS,傳感器(清潔)
      ?硬盤(清洗)
      ?太陽能電池(清潔)
      ?醫療(洗手,純凈水管道清洗)
      ?食品(洗手,消毒,除臭)
       
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